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CIF-Spin Processor轉速穩(wěn)定、啟動迅速，旋涂均勻，操作簡單，結構緊湊實用，為實驗室提供了理想的解決方案。廣泛應用于微電子、半導體、新能源、化工材料、生物材料、光學，硅片、載玻片，晶片，基片，ITO 導電玻璃等工藝制版表面涂覆等。

CIF 掃描電鏡（SEM）等離子清洗機采用遠程等離子清洗源 設計，清洗快速、高效、低轟擊損傷，掃描電鏡等離子清洗機主要用于 SEM 或 FIB 等腔 體內(nèi)碳氫化合物的清洗。

CIF生產(chǎn)型等離子清洗機 CIF 推出的中試生產(chǎn)型等離子清洗機是為研發(fā)型客戶和工業(yè)級客 戶而設計的等離子體表面處理設備。配置豐富， 且真空腔體里可分層， 適合大多數(shù)生產(chǎn)場景清洗，活化、刻蝕等應用。設備可在嚴苛環(huán)境下 穩(wěn)定運行，產(chǎn)品性能穩(wěn)定，樣品處理重復性、一致性好。

CIF烤膠機是一種控溫加熱 設備。主要用于半導體硅片， 載玻片，晶片，基片，ITO 導 電玻璃等工藝的制版的表面涂 覆后薄膜烘干、固化。

Spin Coater勻膠機進行滴膠就是簡單地把光刻膠滴注到靜止的基片表面的中心，滴膠量為1-10ml不等。滴膠的多少應根據(jù)光刻膠的粘度和基片的大小來確定。粘度比較高和/或基片比較大，往往需要滴較多的膠，以保證在高速旋轉階段整個基片上都涂到膠。

CIF 推出的旋涂機系列產(chǎn)品轉速穩(wěn)定、啟動迅速，旋涂均勻，操作簡單，結構緊湊實用，CIF勻膠旋涂儀為實驗室提供了理想的解決方案。

紫外臭氧清洗機（UVO），是一種簡單，經(jīng)濟，快速高效的材料表面清洗設備，能快速去除大多數(shù)無機基材（比如石英，硅片，金，鎳，鋁，砷化鎵，氧化鋁等）上的有機污染物。

粉末等離子清洗機原理：就是在常規(guī)等離子清洗機真空腔內(nèi)，放置可旋轉并帶攪 拌的樣品瓶，通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產(chǎn)生高能量的無序的等離 子體，作用在樣品瓶內(nèi)粉體樣品上，通過等離子體轟擊被清洗粉體材料表面， 改變材料表面性質(zhì)，優(yōu)化材料表面性能。